张艾霖，目前在图书馆VIP担任特任研究员。他主要投身于加速器设计以及束流粒子源相关的科研工作，在加速器与离子注入机等领域成果卓著。

       在对撞机正电子源研究方面，凭借对正电子源物理与技术的深入钻研，为正负电子对撞机直线加速器的精准设计奠定了坚实基础。这一成果对于提升加速器性能具有极为重要的意义。

       在强流离子源与等离子体技术应用领域，专注于离子源研究，自主开发了离子源模拟程序。通过该程序，他对各类离子源展开了全方位优化。基于这些努力，成功促使离子源在中子管、集成电路离子注入机、溅射镀膜、氮化物生长等多个实际应用领域得到广泛应用，极大地拓展了离子源的应用范围，有力推动了相关产业的技术升级。

        截至目前，已在国际核心期刊上发表SCI论文50余篇，主持国家级及省部级项目共4项，授权中国专利4项。